闪烁体阵列

首页 > 产品中心 > 闪烁体阵列 > 二维阵列

二维阵列

基于闪烁体制作地二维阵列一般用于医疗影像正电子计算机断层扫描(PET)、工业CT等领域。上海烁杰用于制作二维阵列的闪烁体包括锗酸铋BGO晶体、硅酸钇镥LYSO晶体、钨酸镉CWO晶体、硫氧化钆GOS陶瓷以及GAGG晶体等;可根据用户需求定制阵列中的像素尺寸和数量,常用的反射层材料为硫酸钡(BaSO4)、3M镜面反射膜(ESR)、二氧化钛(TiO2)等;阵列具有高光输出,高灵敏度,优秀的能量分辨率以及阵列像素间、阵列与阵列间可靠一致性等优点。


产品详情


闪烁体CsI(Tl)CdWO4GOS CeramicLYSO(Ce)GAGG(Ce)BGO
衰减时间(ns)1,02012,7003,0004088317
光产额(ph/MeV)56,00013,00028,00030,00050,0008,500
发射峰值波长(nm)550480510420530480
余晖0.5-5%@6ms0.1%@3ms0.1%@3ms0.1%@6ms0.1%@3ms0.005%@3ms
阵列尺寸4x4/8x8/16x164x4/8x8/16x164x4/8x8/16x164x4/8x8/16x164x4/8x8/16x164x4/8x8/16x16
表面处理研磨/抛光研磨/抛光研磨/抛光研磨/抛光研磨/抛光研磨/抛光
反射层TiO2TiO2TiO2BaSO4 ESRBaSO4 ESRBaSO4 ESR
像素尺寸(min, mm)0.5x0.51.0x1.00.5x0.50.5x0.50.5x0.50.5x0.5
像素间隔(min, mm)0.10.10.10.080.080.08
数据仅供理论参考,具体设计可能进行相关调整



相关产品